Trong kỹ thuật khắc nano dựa trên việc tạo ra một lượng chất lỏng nhất định, các giọt chất lỏng trên bề mặt của một lớp silicon mỏng được ép thành một hệ mạch, nhanh chóng rắn lại và hình thành bên một hệ thống mạch điện mong muốn. (Ảnh: Stephen Chou/Princeton University) Dẫn đầu bởi ông Stephen Chou, giáo sư chế tạo tại đại học Princeton, nhóm nghiên cứu đã khắc phục được một dạng của kỹ thuật khắc nano không dùng ánh sáng (nanoimprint lithography), một phương pháp cách mạng do giáo sư Chou phát minh vào thập niên 90. Kỹ thuật khắc nano sử dụng một chiếc khuôn có kích thước nanomet để tạo nên những vi mạch máy tính và các cấu trúc nano khác, trái ngược rõ rệt với phương pháp truyền thống, phương pháp sử dụng tia ánh sáng, electron hoặc ion để tạo nên các kiểu vi mạch lên thiết bị.
“Đâu là một bước quan trọng bởi vì để đạt được ích lợi từ kỹ thuật khắc nano, bạn cần sử dụng được nó trong việc sản xuất hàng loạt với chi phí thấp,” giáo sư Chou nói. Phát hiện của nhóm nghiên cứu được công bố vào ngày 17 tháng 1 trong tạp chí Nanotechnology. Trong một loạt các nghiên cứu lý thuyết và thực nghiệm, giáo sư Chou và các đồng nghiệp đã nghiên cứu các yếu tố làm cho các bong bóng khí hình thành và tìm ra cách loại bỏ các tác nhân có kích cỡ nhỏ hơn milimet này. Bằng cách gia tăng áp lực khắc hay sử dụng chất lỏng có độ hòa tan của khí cao hơn, họ đã có thể làm tăng một cách đáng kể khả năng tan ra trong chất lỏng của các bong bóng khí trước khi chất lỏng rắn lại. Thanh Vân | |||
Theo Princeton University, Sở KH & CN Đồng Nai |